सेमीकंडक्टर के लिए उच्च तापमान वाला FFKM ओ-रिंग एक उच्च-प्रदर्शन सीलिंग समाधान है जिसे विशेष रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए डिज़ाइन किया गया है।
एफएफकेएम ओ-रिंग उच्च शुद्धता वाले होते हैं और प्लाज्मा, गर्मी और कठोर रसायनों के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी होते हैं, जो सील के जीवनकाल को बढ़ा सकते हैं, संदूषण को कम कर सकते हैं, वेफर की उपज बढ़ा सकते हैं और उत्पादन लागत को कम कर सकते हैं।
सेमीकंडक्टर के लिए उच्च तापमान वाले एफएफकेएम ओ-रिंग के बारे में
सेमीकंडक्टर के लिए उच्च तापमान वाला FFKM ओ-रिंग एक उच्च-प्रदर्शन सीलिंग समाधान है जिसे विशेष रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए डिज़ाइन किया गया है। FFKM ओ-रिंग उच्च शुद्धता वाले होते हैं और प्लाज्मा, गर्मी और कठोर रसायनों के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी होते हैं, जिससे सील का जीवनकाल बढ़ता है, संदूषण कम होता है, वेफर की उपज बढ़ती है और उत्पादन लागत कम होती है।
सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए सीलिंग समाधान (वेट प्रोसेस)
गीली प्रक्रिया
सेमीकंडक्टर वेट प्रोसेस में विभिन्न प्रकार के रासायनिक माध्यम और जटिल अनुप्रयोग परिदृश्य शामिल होते हैं, साथ ही लागत पर भी सावधानीपूर्वक विचार करने की आवश्यकता होती है।
हाओ-ओ सीलिंग स्थैतिक, गतिशील और मिश्रित सीलिंग अनुप्रयोगों के लिए उत्पादों की एक श्रृंखला प्रदान करता है जो व्यापक रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करते हैं।
हमारे समाधानों का उपयोग वेट एचिंग, सीएमपी (केमिकल मैकेनिकल पॉलिशिंग) और फोटोरेसिस्ट कोटिंग और डेवलपमेंट जैसी विभिन्न प्रक्रियाओं में किया जाता है।
| एफएफकेएम | ||||
| प्रक्रिया श्रेणी | प्रक्रिया | तापमान | परिचालन की स्थिति | सामग्री |
| गीली प्रक्रियाएँ | वेफर तैयारी | 25~125°C | SC1, SC2, SPM, HF, UPDI | पीएफ75डब्ल्यूएक्स00 पीएफ75डब्ल्यूएक्स20 पीएफ75केएक्स20 |
| सीएमपी | 25~100°C | KOH, NH3, UPDI | ||
| फोटोलिथोग्राफी | 25~125°C | टीएमएएच, नाओएच, एच2एसओ4+ ऑक्सीकारक, कार्बनिक अम्ल, एनएमपी, अमीन | ||
| अलग करना | 25~125°C | एनएमपी, एमईए, एचडीएमएस, डीएमएसओ | ||
| सफाई/नक्काशी | 25~180°C | एचसीआई, एचएनओ3, एच3पीओ4, एचएफ, यूपीडीआई, एससी1, एससी2, ओ3 | ||
| तांबे की परत चढ़ाना | 25~100°C | CuSO4,H2SO4,H2O2 | ||
सेमीकंडक्टर के लिए उच्च तापमान वाले एफएफकेएम ओ-रिंग की प्रमुख विशेषताएं
1. व्यापक तापमान सीमा: FFKM ओ-रिंग अत्यधिक तापमान में काम कर सकते हैं, जो आमतौर पर -51°F से 620°F (-46°C से 327°C) तक होता है, और कुछ फॉर्मूलेशन 300°C तक के तापमान को भी सहन कर सकते हैं। यह उन्हें महत्वपूर्ण तापीय उतार-चढ़ाव वाले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है।
2. रासायनिक अनुकूलता: FFKM ओ-रिंग्स लगभग सभी रसायनों के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध क्षमता रखते हैं और 1,800 से अधिक विभिन्न रसायनों का सामना कर सकते हैं। यह उन्हें अर्धचालक निर्माण प्रक्रियाओं, विशेष रूप से अत्यधिक संक्षारक रासायनिक प्रसंस्करण और नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं में उत्कृष्ट प्रदर्शन करने वाला बनाता है।
3. कम गैस उत्सर्जन और शुद्धता: एफएफकेएम सामग्री अपने कम गैस उत्सर्जन गुणों के लिए जानी जाती है, जो सेमीकंडक्टर निर्माण में महत्वपूर्ण है, क्योंकि कोई भी छोटी सी अशुद्धि चिप के पूरे बैच को खराब कर सकती है। ये उच्च शुद्धता स्तर भी बनाए रखती हैं, जिससे संवेदनशील प्रक्रियाओं में अशुद्धियों के प्रवेश का जोखिम कम हो जाता है।
4. आयामी स्थिरता: एफएफएम ओ-रिंग चरम स्थितियों में भी अपना आकार और आकृति बनाए रखते हैं, जिससे दीर्घकालिक, विश्वसनीय सीलिंग प्रदर्शन सुनिश्चित होता है।
5. यांत्रिक गुण: इन ओ-रिंगों में उत्कृष्ट यांत्रिक शक्ति और लचीलापन होता है, जिससे ये स्थिर और गतिशील दोनों प्रकार के अनुप्रयोगों में प्रभावी ढंग से कार्य कर सकते हैं। ये निर्वात स्थितियों को सहन कर सकते हैं और कम घर्षण प्रदान करते हैं, जो गतिशील भागों के लिए बहुत अच्छा है।
सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए सीलिंग समाधान (थर्मल प्रक्रिया)
तापीय प्रक्रिया
हाओ-ओ सीलिंग उत्पादों में उत्कृष्ट तापमान प्रतिरोध और एलपीसीवीडी, ऑक्सीकरण, प्रसार और आरटीपी जैसी उच्च तापमान प्रक्रियाओं में गैस उत्सर्जन का उत्कृष्ट प्रदर्शन होता है।
हमारे उत्पाद अत्यधिक तापीय परिस्थितियों में उच्च-प्रदर्शन वाले रबर सामग्रियों के लिए ग्राहकों की आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।
| एफएफकेएम | ||||
| प्रक्रिया श्रेणी | प्रक्रिया | तापमान | परिचालन की स्थिति | सामग्री |
| तापीय प्रक्रियाएँ | एसएसीवीडी | 25~300°C | TEP,TEBO,TEOS,NF3,NH3,O3,O2,N2 | पीएफ75डब्ल्यूएक्स40 पीएच75डब्ल्यूएक्स00 पीएच75टीएक्स00 |
| मेटल सीवीडी और एएलडी एलपीसीवीडी | 25~300°C | कार्बनिक अग्रदूत, WF6,SiH6,TMA,DMAH,TiCl4,SiH4,HF,Cl2,SiH2Cl3,ClF3,NF3,H2O वाष्प,O2,O3 | ||
| लैम्पैनेडर आरटीपी | 150~300°C | आईआर विकिरण, ऑक्सीजन, भाप | ||
| ऑक्सीकरण प्रसार | 150~300°C | N2,O2,H2O,HCI,CI2,B2H6,PH3,BBr3,POCI3 | ||
| यूवी उपचार | 150~300°C | N2,O2,O3,Ar | ||
| थर्मल-एएलडी | 150~300°C | टीईओएस, SiH4, NH3, SiF4, CF4, NF3 | ||
एफएफकेएम ओ-रिंग के उपयोग के लाभ
1. बेहतर विश्वसनीयता: एफएफएम ओ-रिंग्स की मजबूती से इनकी सेवा अवधि लंबी होती है, जिससे रखरखाव की आवश्यकता और उपकरण के बंद होने का समय कम हो जाता है। यह विश्वसनीयता दीर्घकालिक लागत बचत में परिणत हो सकती है।
2. उत्पाद की बेहतर गुणवत्ता: प्रक्रिया में होने वाले संदूषण को कम करके, ये ओ-रिंग उत्पाद की उपज और गुणवत्ता को बेहतर बनाने में मदद करते हैं, जो अर्धचालक निर्माण में महत्वपूर्ण है जहां परिशुद्धता महत्वपूर्ण है।
3. लागत-प्रभावशीलता: हालांकि एफएफकेएम की प्रारंभिक लागत अन्य इलास्टोमर्स की तुलना में अधिक हो सकती है, लेकिन इसकी लंबी सेवा अवधि और कम रखरखाव आवश्यकताओं के कारण कुल परिचालन लागत अक्सर कम हो जाती है।
सेमीकंडक्टर निर्माण में अनुप्रयोग
FFKM ओ-रिंग का उपयोग सेमीकंडक्टर उद्योग में कई महत्वपूर्ण प्रक्रियाओं में किया जाता है, जिनमें शामिल हैं:
1. रासायनिक वाष्प निक्षेपण (सीवीडी)।
2. एचिंग (गीली और सूखी)।
3. रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग (सीएमपी)।
4. छीलने का प्रतिरोध करें।
5. प्लाज्मा और गैस निक्षेपण।
ये अनुप्रयोग उन वातावरणों में एफएफकेएम ओ-रिंग की बहुमुखी प्रतिभा को उजागर करते हैं जहां उच्च प्रदर्शन और विश्वसनीयता की आवश्यकता होती है।
